افزایش پاسخ امپدانس مغناطیسی با استفاده از جریان پالسی در لایهنشانی NiFe

چکیده مقاله

در این مقاله، از روش الکتروشیمیایی برای آبکاری NiFe روی سیم مسی استفاده شده است و سپس پاسخ امپدانس مغناطیسی و حساسیت میدان نمونه‎ها اندازه‎گیری شده است. در روش الکتروشیمیایی زمان فعال لایه‎نشانی یکی از فاکتورهای مهم در بهبود پاسخ امپدانس مغناطیسی است. زمان فعال در لایه‎نشانی جریان پالسی با ایجاد سطحی مناسب باعث افزایش امپدانس مغناطیسی می‎شود. همچنین انتخاب زمان فعال مناسب منجر به تشکیل نانوبلورک‌هایی با آلیاژ یکنواخت‎ می‎شود. نانوبلورک‌هایی که ترکیب آلیاژی بهینه دارند برهمکنش‌های تبادلی بزرگتری دارند که منجر به نفوذپذیری مغناطیسی بالاتر و بهبود پاسخ امپدانس مغناطیسی می‌شود. در این تحقیق اثر زمان‎های فعال متفاوت لایه‎نشانی، با جریان مستقیم مقایسه شده است و بیشینه امپدانس مغناطیسی و درصد حساسیت میدان به ترتیب 122 و 854 درصد اندازه‎گیری شده است.