مشخصه یابی و ارزیابی رفتار دی الکتریک لایه¬های نانوساختار Bi۴Si۳O۱۲ دوپت Sr تهیه شده به روش سل- ژل

نویسندگانسعید حاجی جعفری بیدگلی,عباس صادق زاده عطار
همایشکنفرانس سیستم های بس ذره ای (کپه ای و نانومقیاس)
تاریخ برگزاری همایش۲۰۱۵-۱۱-۱۲
محل برگزاری همایشتهران
نوع ارائهسخنرانی
سطح همایشملی

چکیده مقاله

لایه¬های نانوساختار Bi4Si3O12 و دوپت شده با استرانسیم با استفاده از روش سل- ژل تهیه شدند. سپس تأثیر افزودن ماده استرانسیم بر ساختار، مورفولوژی و خواص الکتریکی آنها مورد بررسی قرار گرفت. جهت ایجاد لایه¬های مورد نظر ابتدا محلول سل اولیه از مخلوط کردن مواد اولیه با نسبت¬های بهینه آماده شده و سپس سل¬های ایجاد شده به روش غوطه وری بر روی زیرلایه نشانده شد. در ادامه لایه¬های ایجاد شده در دمای °C100 خشک شده و تحت عملیات آنیل در دمای °C 700 قرار گرفت. لایه های نازک سنتز شده به وسیله دستگاه¬های XRD، SEM، AFM و LCR meter آنالیز و مشخصه یابی شدند. نتایج حاصل از تصاویر میکروسکوپی و آنالیز AFM بیانگر ایجاد پوششی صاف و یکنواخت با اندازه متوسط ذراتی در حدود 35 نانومتر بر روی زیرلایه می¬باشد. همچنین بررسی¬ خواص الکتریکی نشان داد که با افزایش دمای آنیل، ثابت و اتلاف دی¬الکتریک افزایش یافته و با افزایش فرکانس ثابت و اتلاف دی¬الکتریک این لایه¬ها کاهش می¬یابد