طراحی و ساخت سه لایه WO۳/Cu/WO۳ به عنوان الکترود شفاف وسایل اپتوالکترونیکی و بررسی تأثیر دمای بازپخت روی ویژگی¬های الکتریکی و اپتیکی آن

نویسندگانمدینه نژادزنگنه,سیدمحمدباقر قریشی,احسان حسینی,حسین زابلیان
همایشبیست و سومین کنفرانس اپتیک و فوتونیک ایران و نهمین کنفرانس مهندسی و فناوری فوتونیک ایران
تاریخ برگزاری همایش۲۰۱۷-۱-۳۱
محل برگزاری همایشتهران
نوع ارائهسخنرانی
سطح همایشملی

چکیده مقاله

در این کار ابتدا سه لایه¬ای WO3/Cu/WO3(WCW) طراحی و ضخامت¬های بهینه لایه¬ها برای رسیدن به مقاومت سطحی پایین و شفافیت اپتیکی بالا در ناحیه مرﺋﻲ محاسبه شد که ضخامت¬های بهینه به صورت air/WO3(42nm)/Cu(12nm)/WO3(46nm)/glass به¬دست آمد. سپس سه¬¬ لایه¬ایهای WCW با ضخامت¬های بهینه محاسبه شده روی زیر لایه¬های شیشه¬ای با روش تبخیر حرارتی انباشت شدند. بعد از لایه¬نشانی، نمونه¬ها در هوا در دماهای 80، 150 و 220 درجه سانتیگراد بازپخت شدند و تأثیر بازپخت در دماهای مختلف بر روی مقاومت سطحی و عبور اپتیکی در ناحیه مرﺋﻲ بررسی شد. در نهایت سه لایه¬ای WCW با مقاومت سطحی (□/Ω) 7 و تراگسیل در ناحیه مرﺋﻲ 77% و فاکتور شایستگی (mΩ-1) 6/1 .برای بازپخت 150 درجه سانتیگراد به¬دست آمد.